환경관리사업부 자가측정대행
내용
대기오염은 산업활동과 기타 사람의 활동에 의해 발생되는 대기 오염물질로서 사람의 건강이나 환경에 피해를 주는 상태이고, 대기오염물질은 대기오염의 원인이 되는 가스, 입자상물질, 악취 물질이다. 배출시설로부터 발생되어지는 오염원을 측정·분석하여 이를 방지하기 위한 노력이 필요하다.
- 사업장 대기 자가측정대행 (대기오염물질 전항목)
- 사업장 대기오염방지시설 성능검사 / 물질밸런스
특정대기유해물질
카드뮴 및 그 화합물
염화비닐
1,3-부타디엔
사안화수소
다이옥신
다환 방항족 탄화수소류
납 및 그 화합물
페놀 및 그 화합물
에릴렌옥사이드
폴리염화비페닐
베릴륨 및 그 화합물
디클로로메탄
크롬 및 그 화합물
벤젠
스틸렌
비소 및 그 화합물
사염화탄소
테트라클로로에틸렌
수은 및 그 화합물
이황화메틸
1,2-디클로로에탄
프로필렌옥사이드
아날린
에틸벤젠
염소 및 염화수소
클로로포름
트리클로로에틸렌
불소화물
포름알데히드
아크릴로니트릴
석면
아세트알데히드
히드라진
니켈 및 그 화합물
벤지딘
대기오염물질
입자상물질
사염화탄소
다이옥신
브롬 및 그 화합물
이황화탄소
페놀 및 그 화합물
알루미늄 및 그 화합물
탄화수소
베릴륨 및 그 화합물
바나듐 및 그 화합물
인 및 그 화합물
프로필렌옥사이드
망간화합물
붕소화합물
폴리염화비페닐
철 및 그 화합물
아닐린
클로로포름
아연 및 그 화합물
벤젠
포름알데히드
셀렌 및 그 화합물
스탈렌
아세트알데히드
안티몬 및 그 화합물
아크롤레인
벤지딘
주석 및 그 화합물
카드륨 및 그 화합물
1,3-부타디엔
텔루륨 및 그 화합물
시안화물
다환 방향족 탄화수소류
바륨 및 그 화합물
납 및 그 화합물
에틸렌옥사이드
일산화탄소
크롬 및 그 화합물
디클로로메탄
암모니아
비소 및 그 화합물
테트라클로로에틸렌
질소화합물
수은 및 그 화합물
1,2-디클로로에탄
황산화물
구리 및 그 화합물
에틸벤젠
황화수소
염소 및 그 화합물
트라클로로에틸렌
황화메틸
불소화물
아크릴로니트릴
이황화메틸
석면
히드라진
메르캅탄류
니켈 및 그 화합물
아세트산비닐
아민류
염화비닐
디메틸포름아미드
비스(2-에틸헥실)프탈레이트
사업장 분류기준 (제13조 관련)
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| 종별 | 오염물질발생량 구분 |
|---|---|
| 1종사업장 | 대기오염물질발생량의 합계가 연간 80톤 이상인 사업장 |
| 2종사업장 | 대기오염물질발생량의 합계가 연간 20톤 이상 80톤 미만인 사업장 |
| 3종사업장 | 대기오염물질발생량의 합계가 연간 10톤 이상 20톤 미만인 사업장 |
| 4종사업장 | 대기오염물질발생량의 합계가 연간 2톤 이상 10톤 미만인 사업장 |
| 5종사업장 | 대기오염물질발생량의 합계가 연간 2톤 미만인 사업장 |
- "대기오염물질발생량"이란 방지시설을 통과하기 전의 먼지, 황산화물 및 질소산화물의 발생량을 환경부령으로 정하는 방법에 따라 산정한 양을 말한다.
사업장별 환경기술인의 자격기준 (제39조제2항 관련)
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| 구분 | 환경기술인의 자격기준 |
|---|---|
| 1종사업장 | 대기환경기사 이상의 기술자격 소지자 1명 이상 |
| 2종사업장 | 대기환경산업기사 이상의 기술자격 소지자 1명 이상 |
| 3종사업장 | 대기환경산업기사 이상의 기술자격 소지자, 환경기능사 또는 3년 이상 대기분야 환경관련 업무에 종사한 자 1명 이상 |
| 4종사업장 | 배출시설 설치허가를 받거나 배출시설 설치신고가 수리된 자 또는 배출시설 설치허가를 받거나 수리된 자가해당 사업장의 배출시설 및 방지시설업무에 종사하는 피고용인 중에서 임명하는 자 1명 이상 |
| 5종사업장 |
- 4종사업장과 5종사업장 중 특정대기유해물질이 포함된 오염물질을 배출하는 경우에는 3종사업장에 해당하는 기술인을 두어야 한다.
- 1종사업장과 2종사업장 중 1개월 동안 실제 작업한 날만을 계산하여 1일 평균 17시간 이상 작업하는 경우에는 해당 사업장의 기술인을 각각 2명 이상 두어야 한다. 이 경우, 1명을 제외한 나머지 인원은 3종사업장에 해당하는 기술인 또는 환경기능사로 대체할 수 있다.
- 공동방지시설에서 각 사업장의 대기오염물질 발생량의 합계가 4종사업장과 5종사업장의 규모에 해당하는 경우에는 3종사업장에 해당하는 기술인을 두어야 한다.
- 전체 배출시설에 대하여 방지시설 설치 면제를 받은 사업장과 배출시설에서 배출되는 오염물질 등을 공동방지시설에서 처리하는 사업장은 5종사업장에 해당하는 기술인을 둘 수 있다.
- 대기환경기술인이 「물환경보전법」에 따른 수질환경기술인의 자격을 갖춘 경우에는 수질환경기술인을 겸임할 수 있으며, 대기환경기술인이 「소음·진동관리법」에 따른 소음·진동환경기술인 자격을 갖춘 경우에는 소음·진동 환경기술인을 겸임할 수 있다.
- 법 제2조제11호에 따른 배출시설 중 일반보일러만 설치한 사업장과 대기 오염물질 중 먼지만 발생하는 사업장은 5종사업장에 해당하는 기술인을 둘 수 있다.
- "대기오염물질발생량"이란 방지시설과 통과하기 전의 먼지, 황산화물 및 질소산화물의 발생량을 환경부령으로 정하는 방법에 따라 산정한 양을 말한다.
대기공정시험기준
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| 항목 | 단위 | 검사방법 | 검사기기명 |
|---|---|---|---|
| 수은화합물 | mg/Sm² | 원자흡광광도법 | A.A-VGA |
| 염화비닐 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| THC | ppm | 불꽃이온화검출법 | 총탄화수소측정기 |
| 사염화탄소 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 클로로포름 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 아세트알데히드 | ppm | 액체크로마토그래피법 | HPLC |
| 이황화메틸 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 아닐린 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 에틸렌옥사이드 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 먼지 | mg/Sm² | 반자동식 채취기에 의한 방법/중량법 | 반자동식 채취기 / 건조기 / 전자거울 |
| 황산화물 | ppm | 이르세나조Ⅲ법 | 자동뷰렛 |
| 일산화탄소 | ppm | 전기화학식 | 멀티가스측정기 |
| 암모니아 | ppm | 인도페놀법 | UV측정기 |
| 시안화수소 | ppm | 피리딘피라졸론법 | UV측정기 |
| 황화수소 | ppm | 메틸렌블루법 | UV측정기 |
| 염화수소 | ppm | 이온크로마토그래피법 | IC |
| 염소 | ppm | 오르토톨리딘법 | UV측정기 |
| 포름알데히드 | ppm | 액체크로마토그래피법 | HPLC |
| 불소화합물 | ppm | 흡광광도법 | UV측정기 |
| 이황화탄소 | ppm | 흡광광도법 | UV측정기 |
| 브롬화합물 | ppm | 치아염소산법 | 적정기 |
| 벤젠 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | GC/MS |
| 페놀화합물 | ppm | 흡광광도법 | UV측정기 |
| 질소화합물 | ppm | 흡광광도법 | UV측정기 |
| 카드뮴화합물 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 납화합물 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 크롬화합물 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 구리화합물 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 니켈화합물 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 스틸렌 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | GC/MS |
| 테트라클로로에틸렌 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | G.C |
| 1,2-디클로로에탄 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | G.C |
| 트리클로로에틸렌 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | G.C |
| 아크릴로니트릴 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | G.C |
| 프로필렌옥사이드 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 벤지딘 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 1,3-부타디엔 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 에틸벤젠 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | GC/MS |
| 디클로로메탄 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |
| 다환방향족탄화수소류 | ppm | 가스크로마토그래피법/질량분석기 | GC/MS |
| 베릴륨 | mg/Sm² | 유도결합플라즈마발광광도법 | ICP |
| 폴리클로리네이티드바이페닐 | ppm | 가스크로마토그래피법 | G.C |